Русский (РФ) 
English (UK) Установка предназначена для напыления однослойных и многослойных покрытий методом магнетронного распыления. В качестве рабочего газа в данной установке используется аргон.
Установка обладает следующими преимуществами:
• Максимально возможное число загружаемых подложек в одном цикле – 4.
• Реализована возможность напылять многослойные покрытия из двух или трех различных материалов в одном рабочем цикле.
• Процесс магнетронного распыления может проводиться как в режиме постоянного тока, так и в высокочастотном режиме.
• Один магнетрон работает только в режиме постоянного тока, а два других магнетрона работают в двух режимах: режиме постоянного тока и ВЧ-режиме.
• Реализована подача до двух газов (помимо рабочего) одновременно для проведения реактивного распыления.
• В установке вакуумного напыления реализована возможность ионного травления образцов с помощью ионного источника КЛАН-103М.
• Реализована возможность прогрева подложек.
• Возможно применение мишеней двух разных диаметров с использованием соответствующих магнитных систем, что позволяет производить медленное напыление тонких пленок (от 1 нм) на малой системе, либо напыление пленок большей толщины (до десятков микрон) на основной системе с высокой скоростью.
• Толщина напыляемого покрытия измеряется с помощью кварцевых датчиков.
Параметры мишеней
• Большая мишень – диаметр мишени от 87 мм до 91 мм, толщина мишени от 0,5 мм до 8 мм;
• Малая мишень – диаметр мишени от 50 мм до 52 мм, толщина мишени от 0,5 мм до 4 мм.
Дополнительно:
Год выпуска: 2019